光刻机是芯片制造的核心环节，之所以被誉为工业皇冠上的明珠，不仅是由于它的单价高达上亿美元，更是由于它的构成极为精密和复杂。曾有人比喻过光刻机的光刻原理，就相当于两架同时高速飞行的飞机，其中一架在另一架上按照设计好的线图进行刻画。
以目前最先进的EUV光刻机来说，其核心元器件不下10万个，虽然只有荷兰的ASML能够生产，可有约90%左右的技术零件都是来自其他国家。比如德国的蔡司光源，日美的光刻胶等等。
在华为等国产企业被老美断供芯片之时，我们就决定自己造芯，首先的难点就是EUV光刻机。
虽然ASML曾放出大话表示，即便给我们图纸，我们也造不出来。但是要知道，哪怕是再尖端的技术设备，都是人造的，而非神造的。我们自然也不会因为EUV光刻技术的研发难度而不战自退。
若想完成这个庞然大物的研发，首先就要从它最核心的技术和材料入手。
自中科院等国内顶尖科研机构宣布入局光刻研发任务中后，我国在光刻技术领域有了不少实质性的进展。
前段时间，清华大学传来好消息，宣布开发完成了光源技术，波长可以从太赫兹波段覆盖到极紫外光波段。要知道EUV光刻机的另一个名字是极紫外光刻机，极紫外光源是其最核心的技术之一。
这意味着清华大学自研的光源技术可以直接应用到EUV光刻机上，我们对于EUV光刻机的研发几乎成功了一半。
在举国之力研发光刻技术的大环境下，除了清华大学传来的好消息，近日，国产科技企业也宣布了一项重大突破。
近日，上海新阳半导体材料公司正式宣布，突破了193nm Arf干法高端光刻胶的研发。
从产业分类来看，目前半导体市场上主要使用的光刻胶可分为四类，分别是g线、i线、Krf、Arf四类。其中g线、i线光刻胶属于中低端产品，国内工艺已经成熟，但Krf、Arf这两种高端光刻胶却一直被日美的企业所垄断着。
据业内人士透露，上海新阳在高端光刻胶领域的突破要得益于从ASML购买的DUV-1400光刻机。事实上，在去年苏州晶瑞从ASML买到一台二手光刻机后，也已展开了对光刻胶的研发。
不过从市场规模和技术积累来看，上海新阳被专家们一致认为是最有可能率先在高端光刻胶方面实现量产的中国企业。
从上海新阳的光刻胶项目发展规划来看，Arf光刻胶在明年便可实现少量销售，在2023年能大规模量产，进入实际商用阶段。
除了光源、光刻胶技术的突破之外，国内科技企业与科研机构在EDA软件、数控机床等多项半导体产业链中的关键领域同样有不小的成果，经历过“卡脖子”之痛后，我们的目标已经不仅仅局限在芯片和光刻设备上了，而是建立自主技术生态，彻底摆脱对美国的依赖。
老美在以举国之力打压华为等中企之时，涉及到的芯片和EUV光刻机只是引线罢了，其真实目的是想遏制我国高科技的发展。在这样的情况下，我们要做的就是团结起来发起反击，这场科技博弈仍在继续，相信最终的胜者一定会是我们!
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