与荷兰光刻机巨头阿斯麦集团(ASML)签订一份高达12亿美元的订单。
阿斯麦集团紧随其后“官宣”，证实中芯国际采购的正是深紫外线光刻机(即DUV光刻机)。
而在3月1日，美国国家安全人工智能委员还煞费苦心地写了一份报告，让美国政府“劝说”荷兰和日本，不要为中国发放芯片制造设备的许可证。
这才过了两天，中芯国际就狠狠打了美国的脸。
原本中芯国际与阿斯麦签署的购买协议已于2020年底到期，但是两家公司经过协调之后达成共识，决定延长此份协议的期限至今年年底。
这意味着，在美国多方位遏制打压中国芯片制造的情况下，中国也算是踏出了突破性的一步。
中芯国际于去年开始被美国“制裁”，美国以所谓的“与军方有联系”为由，要求美国半导体制造企业，不得向中芯国际出口产品和关键性技术。
如果中芯国际想与美国供应商合作，必须申请相应的许可证。美国不仅严格管控本国的企业，还把手伸向了其他国家的企业。
荷兰的阿斯麦集团作为半导体制造业的“领头老大”，自然成为了美国的首要目标。
在芯片制造产业链中，光刻机是必不可少的精密设备。但因为其复杂的工艺，全世界只有几个国家的企业能生产顶级的光刻机。
荷兰的阿斯麦企业在这个领域是实打实的佼佼者。如果说深紫外线(DUV)光刻机还有几家企业能造，而比DUV光刻机更精密的极紫外线(EUV)光刻机，全球只有阿斯麦能造。
美国明面上没有表示，其实暗地里多次向阿斯麦集团施压，阻止阿斯麦向中芯国际出口关键的芯片制造技术，包括设备。
虽然这份协议的延长能缓解中芯国际的芯片生产压力，但中芯国际对产品和技术的进一步发展仍有很大的阻碍，因为此次协议不包括更先进的EUV光刻机。
据阿斯麦有关人士透露，向中国出口DUV光刻机没有问题，但EUV光刻机的出口仍需要荷兰政府的批准。
对于外国的技术垄断，中国也在不断地寻求技术突破。
近日，清华大学工程物理系教授唐传祥研究团队在《自然》杂志上发表了一篇论文，报告中显示，他们完成了一种新型光源的原理验证实验，这种光源名为“稳态微聚束”(SSMB)，与极紫外线(EUV)有着密切的关系。
简单来说，这个原理的发现与验证，将有望为制造EUV光刻机提供新的技术路线与思路。
虽然这距离中国自主研发制造EUV光刻机还有非常遥远的距离，但无疑是一个巨大的希望。这不仅将能实现中国自身的技术发展，还能在面对美国频繁实施技术封锁与打压之时，更有底气。
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